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    说完，他开始讲解光刻机的基本原理，那些术语流畅地从他口中吐出，每一个数据都异常精确，听起来让人无比信服——因为这些本都是劳伦斯给他的资料中的核心内容，顾北舟在直播前反复背诵和练习，早已经烂熟于心。

    “我们的光刻机采用了极紫外光源技术，波长13.5纳米，这是目前最先进的光刻方案。”

    顾北舟走到控制台前，调出一组数据模型，“这是我们模拟的曝光实验结果，线宽可达7纳米，并且通过多重曝光技术理论上完全可以实现5纳米制程。”

    弹幕里已经出现了专业人士，其中有几个甚至是颇具权威的科研博主和官方账号。

    “EUV技术，这不是一直被西班牙的科技集团KCD垄断了吗？我记得那个时候还获得了科研界的科普文奖，只是拿到技术之后后期实验卡顿，很可惜并没有完成真正的光刻机。”

    “顾北舟说的是真的，数据看起来没问题，全都对的上。”

    “如果真能达到7纳米，那已经可以满足大部分高端芯片需求了。如果真的投产，绝对能在半导体行业引发全球大地震。”

    “等一等，他刚才提到的折射率补偿算法，我在一篇未公开的论文里见过类似思路！”

    顾北舟眼神略过这些评论，心中更加安定。

    这些资料中有许多是劳伦斯给他的全球顶尖研究所未公布的实验数据，果然足够先进。至少此刻让这些业内人士认可绝对不成问题。

    “那现在，让我们看看‘光刻机’的内部结构。”

    顾北舟按下控制台的一个按钮，光刻机的前面板缓缓打开，露出内部精密的机械结构。

    肖芙将镜头拉近，对准了那一排排神秘莫测的激光发射器。

    顾北舟详细讲解每一个组件的功能，从光源系统到投影透镜，从掩模台到硅片台，他的解说十分流畅又不乏专业度，偶尔插入一些自己独自研究的小故事和小发现，保证既能让业内人士明白这台光刻机的“权威性”，又让围观群众知道他付出得心血到底有多少。

    “最困难的部分是反射镜系统。”

    顾北舟沉声说道，“因为EUV光会被几乎所有材料吸收，所以在实验一开始我们就知道不能使用现在最普遍的透射式光学系统，而必须采用反射式。这就要求反射镜的表面粗糙度必须控制在0.3纳米以下——这个精细程度，就是全球所有先进科研实验室迟迟无法攻克的难点。”
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